万华化学集团申请一种浸没式光刻胶组合物专利，有效在193nm浸没式光刻过程中降低浸出率、增大接触角
金融界2024年12月9日消息，国家知识产权局信息显示，万华化学集团股份有限公司申请一项名为“一种浸没式光刻胶组合物”的专利，公开号CN 119087744 A，申请日期为2024年9月。
专利摘要显示，本发明涉及一种浸没式光刻胶组合物，包括以下质量分数的各组分：聚合物树脂1～20％、纤维素1～20％、光致产酸剂0.1～10％、酸抑制扩散剂0.1～10％、有机溶剂50～98％，本申请使用具有丰富官能团的聚合物树脂，并且引入具有多官能团且具有低临界相变温度(LCST)的烷基纤维素，二者可以形成氢键或静电相互作用，且通过升高温度可实现溶胶向凝胶的转变，从而形成三维网络，继而可以有效在193nm浸没式光刻过程中降低浸出率、增大接触角