在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择
在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面上得到所需的图像。光刻胶按其形成的图像分类有正性、负性两大类。
光刻胶主要应用于显示面板、集成电路和半导体分立器件等细微图形加工作业。
光刻胶主要应用于显示面板、集成电路和半导体分立器件等细微图形加工作业。
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